无 机硅化舍物（ Ｄ 册Ｓ ｉ ｎ ｏｐ ｚｄ ０８ ｒ ｇ ｉ ｏ Ｃｍ ｏ ） ０ 年第３ 总第 １ 期， ｌ ｃ ｍ ２ 期（ ４ ４ 仅内 ２ 部

　　（ 京 国瑞 升科技有 限公 司 ，北 京市 １０ ８ ） 北 ０ ０ ５ 摘 要 ：本 发 明提供 一种 酸性 二氧化硅溶胶 ，其特 征在 于 ：包括水 和分 散 于水 中的以硅粉

　　为纳米级或亚微米级的二氧化硅胶体 ，溶胶 的 ｐ Ｈ值为 １ ． ．，铜离子含量￣ ０ｐ 。 ５—３ ５ ５ｐ ｂ 所述二氧化硅胶体 的粒径为 ５ ０ ｎ ２ ０ｍ。 所述二氧化硅胶体的质量百分 比浓度为 ５— ０ ５ ％。

　　所 述水 为 电阻 率之 ４ １ＭＱ・ 的高纯 水 。 ｃ ｍ 所 述溶胶 的运 动粘度 ＜ ｍｍ ／。 ５ Ｓ

　　本发 明涉及硅溶胶系抛光材料 ，特别是一种酸性二氧化硅溶胶及其 制备方法和用途 。

　　随着信息产业 的迅猛发展 ， 电子器件的集成化程度越来越高 ， 器件表面的平坦化加工就 显得十分重要 ，由 ＩＭ 和 Ｍｉ ｏ ｃｎ ｌ ｙ公 司联合开发的化学机械抛光 （ ＭＰ） Ｂ ｃ ｔ ｈｏ ｇ ｒｅ ｏ Ｃ 技术是

　　间和硅粉的加料速率进行控制。 上述酸性二氧化硅溶胶 的用途 ，其特征在于 ：用于 电子行业 、半导双赢彩票在线购彩 双赢彩票平台体 、硬盘 、化合物晶体 、或精密光学器

　　为原料 制得的粒径 为纳米级或 亚微米级 的二氧化硅胶体 ， 胶的 ｐ 溶 Ｈ值为 １ ． ．， ５—３ 铜离 子含量 ５ ５ ０ ｐ 。该 溶胶具 有高稳 定性 和高纯度 的特点 ，能够 适用 于电子行 业 、半 导体 、硬盘 、化 合物 ５ ｐｂ 晶体 、精密光学器件 等 的化 学机械 抛光 （ ＭＰ ，因其低铜含 量特别 在半导体 抛光领域有 优势 。 Ｃ ） 本发明还提供上述 酸性二 氧化 硅溶胶 的制 备方法 和用 途。

　　本发明针对现有技术 中存在的缺陷或不足 ，提供一种酸性二氧化硅溶胶 ， 该溶胶具有高

　　稳双赢彩票 双赢彩票网站定性和高纯度的特点 ，能够适用于电子行业 、 半双赢双赢彩票 双赢彩票网站彩票在线购彩 双赢彩票平台导体 、 硬盘 、 化合物晶体 、 精密光学器件

　　所述硅粉为 １０ ８０目的硅粉 ，其化学成分为 Ｓ ９ ％，Ｃ ＿ ． ５ ０ ～０ ｉ９ ｕ Ｏ ０ ％。 ＜ ０

　　上述酸性二氧化硅溶胶的制备方法 ，其特征在于包括 以下步骤 ： （ ）以硅粉为原料 ，在碱的催化作用下 ，通过热水解反应制得碱性二氧化硅溶胶双赢彩票在线购彩 双赢彩票平台 ； １

　　围可分为酸性硅溶胶及碱性硅溶胶两种。碱性二氧化硅溶胶是一种稳定体系 ，国内外关于其 制备和应用方面的专利较多 。 相对碱性硅溶胶而言 ，酸性硅溶胶处于亚稳状态 ，在放置过程 中会逐渐发生胶凝作用 ，

　　尤其 是 高浓度 的酸 性硅 溶胶 的凝 胶 趋 势更 为 明显 ，成 为 制约 其应 用 的主 要影 响因 素 。

　　酸性硅溶胶的常用 制备工艺如下 ：将市售水玻璃通过稀释并与 阳离子交换树脂 进行交

　　换 ，得到活性硅酸 ； 将硅酸用碱液处理至碱性 ； 再将该碱性 的硅酸溶液进行加热缩合反应并 浓缩 ，制得碱性硅溶胶 ；最后将碱性硅溶胶再经过阳离子树脂进行 阳离子交换 ，同时加人适

　　等的化学机械抛光 （ ＭＰ ，因其低铜含量特别在半导体抛光领域有优势。本发明还提供上 Ｃ ）

　　述 酸牲 二 氧化 硅溶 胶 的制 备 方法 。 本发 明还 提供 上述 酸 性二 氧化 硅 溶胶 的用 途 。 本发 明 的技术 方 案如 下 ：

　　种酸性二氧化硅溶胶 ， 其特征在于： 包括水 和分散于水 中的以硅粉为原料制得的粒径

　　ｐ Ｈ值 ，最后施以 １０伏 电压整流处理而得 ；该法制得 的溶胶主要用作人 、禽畜粪便和垃圾 ０

　　处 理工 艺 。还有 人通 过 将 少 量 氧化 铝加 入 到二 氧化 硅溶 胶 中 ，继 而经 离 子交 换 处 理得 到较 稳

　　定的酸性二氧化硅溶胶。上述方法 ，由于方法本身的限制或原料 的影响 ，常使得制得的酸 陛 硅胶存在稳定性差或金属离子含量高的缺点 ， 或者需要加入其他助剂增加酸性硅溶胶 的稳定 性 ，这对二氧化硅溶胶用于 电子或半导体领域 Ｃ ＭＰ抛光时常会产生较大的污染 。

　　（） ２ 将制得的碱性二氧化硅溶胶进行过滤处理 ； （ ３）将过滤后的碱 隆二氧化硅溶胶通过强酸性 阳离子树脂交换处理得到 ｐ Ｈ值在 ２５ ．～

　　４的酸性 二氧化 硅溶 胶 ； （４ 交换后 的酸性 二氧化硅溶胶可根据需要调节 ）

　　ｐ Ｈ值至 １ ～ ． ． ３。 ５ ５ 所 述 二氧 化 硅 胶 体 的粒 径 和浓 度 大 小 通 过 反 应 时

　　种制造集成电路 的优选方法 ， 该方法能在 晶片上取得整体平面化 ， 硅溶胶或硅溶胶包覆氧

　　化物 的抛光 液 是 目前 最具 代 表 性 的 Ｃ ＭＰ技术 用抛 光剂 。 硅 溶胶 系无 定 型 二 氧化 硅 聚集 颗 粒在水 中均 匀分 散形 成 的胶 体 溶液 。根 据 溶液 ｐ Ｈ值 范

　　通过上述工艺制得 的酸性硅溶胶稳定性差 ，制得的酸性硅胶的存放时间仅为几小 时， 并 且其最大浓度为 １％， 给储藏和运输带来极大的不便 ；有研究者 以水玻璃为原料 ， ５ 通过多次 阳离子和阴离子交换可大大提高所得 酸性硅胶的稳定性 。其他的方法 ，如一种含有 甲醇 的 ｐ Ｈ在 ｌ ～６的二氧化硅研磨 液 ， 该研磨液可用 于硅基片的抛光 ；一种酸性二氧化硅溶胶 的制 备 方 法 ，即用 ５ ６ ％的硫 酸和 ２ ０ 目以上 的分散 剂 二 氧化 硅 混合 ，然 后 经氢 氧 化钠 调节 ０— ５ ０